拓荆科技“叩门”科创板 大基金等云集股东榜

◎记者 祁豆豆 ○编辑 祝建华

7月12日晚间，上交所科创板迎来一名特殊的“芯考生”。公司自身无控股股东、实际控制人，却获得国家集成电路基金（即大基金）、中微公司等一众半导体产业界大咖的青睐，纷纷坐镇股东榜。这名“考生”是拓荆科技股份有限公司（下称“拓荆科技”），此次拟募集资金10亿元，有望进一步壮大科创板“芯生”队伍。

据招股书申报稿显示，拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

科创板开市以来已集聚了不少半导体领域的精兵强将，拓荆科技在业界的硬实力如何？

据悉，拓荆科技是国内半导体设备行业重要的领军企业之一，公司分别于2016年、2017年、2019年获得中国半导体行业协会颁发的“中国半导体设备五强企业”称号。值得一提的是，拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD、SACVD设备厂商，公司产品已成功应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、厦门联芯、燕东微电子等行业领先集成电路制造企业产线，累计发货超150套机台，不同工艺型号的机台配适国内厂商各类介质薄膜沉积的制造需求，有效降低国内集成电路生产线对国际设备厂商的依赖。截至招股书签署日，拓荆科技已获授权专利167项，其中国内150项，包含发明专利69项、实用新型专利80项、外观设计1项；其他国家或地区17项。

2018年至2020年及2021年一季度，公司客户需求及数量快速增长，销售收入分别为7064.40万元、2.51亿元、4.36亿元和5774.10万元，呈现快速增长的趋势。客户数量和销售收入的快速增长进一步验证了公司的科技成果成功转化为市场产品，得到下游客户认可。

同期，公司研发费用分别为1.08亿元、7431.87万元、1.23亿元和2714.86万元，占各期营业收入的比例为152.84%、29.58%、28.19%和47.02%。由于研发费用金额较高和占营业收入的比例较大，公司目前尚处于亏损状态。因此，拓荆科技特别选择了“市值+营收”的第四套上市标准，即“预计市值不低于人民币30亿元，且最近一年营业收入不低于人民币3亿元”。

本次公司拟募集资金10亿元，投向高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目以及补充流动资金。

招股书申报稿显示，最近两年，拓荆科技第一大股东所持股股权比例不足控股，其他股东持股比例相对分散，使得公司不存在控股股东、实际控制人。

尽管无控股股东，但拓荆科技股东榜却云集了国内半导体产业的多家重量级公司。国家集成电路基金、国投上海、中微公司分别持有公司26.48%、18.23%、11.2%的股权。公司董事长吕光泉持有公司50万股，占总股本的0.53%。